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John Wilson fueHypersolid Metal Tech Co., Ltd es una empresa muy responsable que puede resolver efectivamente nuestros problemas. Espero que haya oportunidades para trabajar juntos en el futuro. -
MiaEsta empresa es la mejor que he visto nunca. Los empleados de la empresa son particularmente entusiastas y capaces de responder y satisfacer nuestras necesidades. Si hay una necesidad en el futuro, seguiré trabajando con usted!
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W Objetivo de tungsteno Fusión de tierras raras Titanio Objetivo de pulverización de tungsteno
| Número de modelo | Blanco de la farfulla del tungsteno |
|---|---|
| Cantidad de orden mínima | negocie |
| Precio | Negitionable |
| Detalles de empaquetado | Cartones de exportación estándar |
| Tiempo de entrega | 30 días después de recibir el pago inicial |
| Condiciones de pago | L/C, D/A, D/P, T/T |
| Capacidad de la fuente | 10000sets/month |
Éntreme en contacto con gratis las muestras y los vales.
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xDatos del producto
| Nombre | Objetivos de pulverización de tungsteno | Forma de las piezas | redondo |
|---|---|---|---|
| El material | W Tungsteno | Composición química | 99.95% por lo menos. |
| Condición superficial | torneado, de tierra, puliendo o pulido del espejo | Aplicación | Aeroespacial, fundición de tierras raras |
| Alta luz | W Objetivo de tungsteno,W Objetivo de pulverización de titanio y tungsteno,Objetivo de fusión de tungsteno de tierras raras |
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Descripción de producto
W Objetivos de pulverización de tungsteno Aeroespacial, fundición de tierras raras
Objetivos de pulverización de tungsteno ampliamente utilizados en la industria aeroespacial, fundición de tierras raras, fuente de luz eléctrica, equipos químicos, equipos médicos, maquinaria metalúrgica, equipos de fundición, petróleo, etc.
Parámetro
|
OD (mm) |
Identificación en mm |
Duración ((mm) |
Hecho a medida |
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140 a 300 |
120 a 280 años |
100 a 3300 |
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Número de modelo |
W1 |
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Forma de las piezas |
personalizado |
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Composición química |
99.95% de agua |
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Características
(1) Superficie lisa, sin poros, esporas u otras imperfecciones, sin bordes de afilado o de trituración, sin marcas de corte
(3) Purificación sanguínea de nivel insuperable
(4) Alta ductilidad
(5) Marcado homogéneo de micro microtrucultura para su artículo especial con nombre, marca, tamaño de pureza, etc.
(7)Cada pieza de los objetivos de pulverización desde el número de materiales en polvo, los trabajadores de mezcla, el tiempo de salida de gases y HIP, la persona de mecanizado y los detalles de embalaje son todos nosotros mismos.
Especificación
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Número atómico |
74 |
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Número CAS |
7440-33-7 |
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Masa atómica |
183.84 [g/mol] |
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Punto de fusión |
3420 °C |
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Punto de ebullición |
5555 °C |
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Densidad a 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
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Estructura de cristal |
Cubo centrado en el cuerpo |
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Coeficiente de expansión térmica lineal a 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
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Conductividad térmica a 20 °C |
Se aplicará el procedimiento siguiente: |
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Calor específico a 20 °C |
0.13 [J/gK] |
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Conductividad eléctrica a 20 °C |
18.2106[S/m] |
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Resistencia eléctrica específica a 20 °C |
0.055 [(mm2) /m] |
Las aplicaciones
el semiconductor
deposición de vapor químico (CVD)
Display de deposición física de vapor (PVD)
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