• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
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Partes de molibdeno Alta pureza 99,95% Volframio puro Molibdeno objetivo de pulverización

Lugar de origen China
Nombre de la marca Hypersolid Metal
Cantidad de orden mínima Negociar
Precio Negitionable
Detalles de empaquetado Cartones de exportación estándar
Tiempo de entrega 30 días después de recibir el pago inicial
Condiciones de pago Las condiciones de los productos incluidos en el presente Reglamento son las siguientes:
Capacidad de la fuente 10000 series por mes

Éntreme en contacto con gratis las muestras y los vales.

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Datos del producto
Diámetro 10m m - 100m m Elongado El 10%
Formabilidad Conformabilidad excelente Punto de fusión 2610℃
Especificaciones Personalizado Estado miembro Las demás partidas
Finalización de la superficie Moldeado o pulido Tratamiento de la superficie pulido/molido
Alta luz

blanco de la farfulla del molibdeno de la pureza elevada

,

99Objetivo de pulverización de molibdeno.95%

,

Dispersión de molibdeno de alta pureza

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Descripción de producto

1,Descripción:

  1. El objetivo de pulverización de molibdeno es un material de alta pureza utilizado en procesos de deposición física de vapor (PVD).
  2. Se utiliza comúnmente en aplicaciones de deposición de películas finas para recubrir varios sustratos.
  3. Los objetivos de pulverización de molibdeno presentan excelentes propiedades de conductividad térmica y eléctrica.
  4. Son conocidos por su alto punto de fusión, buena adhesión y deposición uniforme de la película.
  5. Los objetivos de molibdeno se utilizan ampliamente en industrias como semiconductores, pantallas, células solares y recubrimientos ópticos.

2,Especificaciones:

 

Propiedad Valor (unidad)
Densidad 10.2 gramos por centímetro cúbico
Punto de fusión 2620 grados Celsius
Conductividad térmica 138 vatios por metro-kelvin
Conductividad eléctrica 350,000 Siemens por metro
Fuerza de rendimiento 345 megapascales
Magnetismo Las demás
Resistencia a la corrosión Es bueno.

 

Partes de molibdeno Alta pureza 99,95% Volframio puro Molibdeno objetivo de pulverización 0