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John Wilson fueHypersolid Metal Tech Co., Ltd es una empresa muy responsable que puede resolver efectivamente nuestros problemas. Espero que haya oportunidades para trabajar juntos en el futuro. -
MiaEsta empresa es la mejor que he visto nunca. Los empleados de la empresa son particularmente entusiastas y capaces de responder y satisfacer nuestras necesidades. Si hay una necesidad en el futuro, seguiré trabajando con usted!
Alta pureza 99,95% Pulverización de tungsteno objetivo de arena
| Lugar de origen | China |
|---|---|
| Nombre de la marca | Hypersolid Metal |
| Cantidad de orden mínima | Negociar |
| Precio | Negitionable |
| Detalles de empaquetado | Cartones de exportación estándar |
| Tiempo de entrega | 30 días después de recibir el pago inicial |
| Condiciones de pago | Las condiciones de los productos incluidos en el presente Reglamento son las siguientes: |
| Capacidad de la fuente | 10000sets/month |
Éntreme en contacto con gratis las muestras y los vales.
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x| Número atómico | 74 | Peso atómico | 183.84 |
|---|---|---|---|
| Punto de ebullición | 5927°c | Electronegativity | 2.36 |
| El material | TUNGSTENO | Punto de fusión | 3410°c |
| Estado de oxidación | 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 | Tratamiento de la superficie | Polaco, el pulir con chorro de arena, anodización, etc. |
| Alta luz | objetivo de pulverización de tungsteno de alta pureza,Objetivo de pulverización de tungsteno por soplado de arena,99.95% de pulverización de tungsteno |
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1,Descripción:
Material: Los materiales objetivo de tungsteno se fabrican generalmente a partir de tungsteno o aleaciones de tungsteno de alta pureza, diseñados específicamente para su uso en procesos de deposición física de vapor (PVD).
Punto de fusión alto: El tungsteno tiene un punto de fusión excepcionalmente alto de aproximadamente 3,422 grados Celsius (6,191 grados Fahrenheit),que permite resistir las altas temperaturas generadas durante los procesos de PVD.
Densidad: Los materiales objetivo de tungsteno tienen una alta densidad, que generalmente oscila entre 17,8 y 19,3 gramos por centímetro cúbico (g/cm3), lo que garantiza una alta tasa de deposición y una utilización eficiente del material.
2,Especificaciones:
| El material | Los demás materiales de la partida 9402 incluidos |
| Punto de fusión | Aproximadamente 3.422 grados Celsius (6.191 grados Fahrenheit) |
| Densidad | 17.8 - 19,3 gramos por centímetro cúbico (g/cm3) |
| Conductividad térmica | Excelente conductividad térmica |
| Tasa de pulverización | Relativamente baja velocidad de pulverización, pérdida mínima de material |
| Purificación | Altos niveles de pureza, impurezas mínimas |
| Uniformidad | Dimensiones precisas y uniformidad para una deposición de película consistente |
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