• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
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Alta pureza 99,95% Pulverización de tungsteno objetivo de arena

Lugar de origen China
Nombre de la marca Hypersolid Metal
Cantidad de orden mínima Negociar
Precio Negitionable
Detalles de empaquetado Cartones de exportación estándar
Tiempo de entrega 30 días después de recibir el pago inicial
Condiciones de pago Las condiciones de los productos incluidos en el presente Reglamento son las siguientes:
Capacidad de la fuente 10000sets/month

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Datos del producto
Número atómico 74 Peso atómico 183.84
Punto de ebullición 5927°c Electronegativity 2.36
El material TUNGSTENO Punto de fusión 3410°c
Estado de oxidación 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 Tratamiento de la superficie Polaco, el pulir con chorro de arena, anodización, etc.
Alta luz

objetivo de pulverización de tungsteno de alta pureza

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Objetivo de pulverización de tungsteno por soplado de arena

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99.95% de pulverización de tungsteno

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Descripción de producto

1,Descripción:

Material: Los materiales objetivo de tungsteno se fabrican generalmente a partir de tungsteno o aleaciones de tungsteno de alta pureza, diseñados específicamente para su uso en procesos de deposición física de vapor (PVD).

Punto de fusión alto: El tungsteno tiene un punto de fusión excepcionalmente alto de aproximadamente 3,422 grados Celsius (6,191 grados Fahrenheit),que permite resistir las altas temperaturas generadas durante los procesos de PVD.

Densidad: Los materiales objetivo de tungsteno tienen una alta densidad, que generalmente oscila entre 17,8 y 19,3 gramos por centímetro cúbico (g/cm3), lo que garantiza una alta tasa de deposición y una utilización eficiente del material.

 

2,Especificaciones:

El material Los demás materiales de la partida 9402 incluidos
Punto de fusión Aproximadamente 3.422 grados Celsius (6.191 grados Fahrenheit)
Densidad 17.8 - 19,3 gramos por centímetro cúbico (g/cm3)
Conductividad térmica Excelente conductividad térmica
Tasa de pulverización Relativamente baja velocidad de pulverización, pérdida mínima de material
Purificación Altos niveles de pureza, impurezas mínimas
Uniformidad Dimensiones precisas y uniformidad para una deposición de película consistente

 

Alta pureza 99,95% Pulverización de tungsteno objetivo de arena 0Alta pureza 99,95% Pulverización de tungsteno objetivo de arena 1